質量分析装置

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  高電圧直流電源

  10ppm以下の高精度・高安定な高圧電源を始め豊富なラインナップから選択可能。UL、IEC規格取得品。

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  特定用途向け電源

  10ppm以下の高精度・高安定な高圧電源を始め豊富なラインナップから選択可能。UL、IEC規格取得品。

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  AC/DC高圧電源

  10ppm以下の高精度・高安定な高圧電源を始め豊富なラインナップから選択可能。UL、IEC規格取得品。

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  オプション/アクセサリ

  10ppm以下の高精度・高安定な高圧電源を始め豊富なラインナップから選択可能。UL、IEC規格取得品。

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  パルスジェネレータ

  立上り25ｎsec,最大240kHzパルス発生可能な高圧パルス発生器。

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  LDドライバー

  立上り25ｎsec,最大240kHzパルス発生可能な高圧パルス発生器。

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  高電圧パルサー

  1～2nsecの高速立上りにて電子・イオンの偏向可能。

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  パルスジェネレータ

  1～2nsecの高速立上りにて電子・イオンの偏向可能。

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  面実装抵抗器

  非磁性・高抵抗面実装タイプの使用可能。

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  リード線型抵抗器

  非磁性・高抵抗面実装タイプの使用可能。

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  面実装コンデンサ

  非磁性・高抵抗面実装タイプの使用可能。

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  面実装型温度センサ

  非磁性・高抵抗面実装タイプの使用可能。

• NMR/MRI/NQR

  電磁波を加えたときにおこる共鳴現象を用いることで、分子構造、物理化学的性質の分析を行う方法。

• 質量分析装置

  飛行しているイオンを電気的・磁気的な作用等により質量電荷比に応じて分離それぞれを検出装置。

• RF電源/RFアンプ

  NMR、プラズマ装置、レーダ装置、加速器等には、様々な周波数、出力、パルス幅を必要とするRFアンプが使用される。

• X線システム

  フィラメントと金属ターゲット間に高電圧をかけてフィラメントから発生する電子を加速し、ターゲットに衝突させてX線発生させるシステム。

• 高速パルス発生

  プラズマ発生や電子、イオンの偏向やシャッター等の用途に最適な高速パルス発生器。

• レーザーダイオード

  半導体の再結合発光を利用した半導体レーザー制御を可能とした大容量タイプLDドライバー。

• パネル製造装置(太陽光/有機EL)

  真空蒸着により有機材料の薄膜層を必要な領域に真空蒸着によって成膜することで製造される。

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