高周波などを印加することで原料ガスをプラズマ化させ物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつ。
製品イメージ | 製品名 | 説明 |
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コイル用途等大電流用途として7.5V~600V、200W~15kWまで対応可能。 | |
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大電流タイプ(最大100V/100A)、高電圧(100kV/5kW)まで対応可能。大電流タイプは並列運転可能。 | |
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負荷変動の大きい用途には、フォールドバック機能により反射を検出し自動的に出力を下げる機能が標準装備。 | |
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各種マイクロ波プラズマ装置では、2.45GHzの高周波電源、マグネトロンなど周辺機器の提供が可能。 | |
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単相・三相整流器や保護用整流器として使用可能。 |
静電チャック | 半導体製造装置 | プラズマCVD/エッチング |
ICファイナルテスト | ICエージング | 実機ボード用テストソケット |
蒸着装置 | 検査装置 | イオンポンプ |
イオン注入装置 | 電子顕微鏡(SEM/TEM) | 露光装置 |
RFパラメータ測定器 |